一、主要用途：主要用于鎢、鉬粉末冶金的氫氣氣氛保護電阻加熱燒結、電子行業陶瓷金屬化表面處理、材料無氧化處理等領域。

二、設備構成：水冷爐體、鉬發熱體、電源、真空系統、操作柜、 工作平臺、電氣控制系統、計算機系統、溫度控制系統、升降機構、底盤（鉬制料架）、平臺、充氣快冷系統、水冷系統、氣動系統等組成。

該系列氫氣保護鉬絲電阻加熱爐采用鎢、鉬帶發熱體鉬絲、棒作為加熱元件；鎢、鉬隔熱屏，尤其適用于高氫氣氛下燒結鎢、鉬材料的高溫燒結，該爐具有溫差均勻、更換方便，耐溫高、壽命長等特點。用途 應用于硬質合金材料、鎢、鉬等真空/氣氛燒結。

三、主要技術參數

*溫度：1100～1650℃

預抽真空度：10Pa

爐內工作氣氛：真空、氫氣、氮氣、惰性氣體等；

冷卻方式：自然冷卻、氫氣外循環快冷

控制方式：手動+程序自控

溫度測量：鎢錸熱電偶、紅外測溫儀測溫；

溫度控制：程序控制和手動控制；

控溫精度：±1℃；

升溫速度：200～600℃/分鐘（空爐，視高溫區容積和爐膛結構而定）。

四、裝出料方式、*裝爐量Kg

1、Φ200×300 1～2 1～2 鐘罩、上出料 50

2、Φ300×500 1～2 1～2 托盤、下出料 150

3、Φ400×700 2～4 2～4 托盤、下出料 200

4、Φ500×800 2～4 2～4 托盤、下出料 300

5、Φ600×900 4～6 4～6 托盤、下出料 400

6、Φ800×1200 4～6 4～6 托盤、下出料 500